深夜，徐教授拖着疲惫的身体，回到了华清大学。

光刻机还没有装好，需要集中精神，所以他们得回去睡觉，不过，仅仅这次安装，就给了徐教授更多的灵感，可以把自己的光刻机改造得更好。

但是，在回家之前，徐教授还是和往常一样，先去办公室里，把接下来要做的事情记录下来，然后……就看到了有人在自己的门口等着。

“老谭？”

“老徐，你可终于回来了！”魔都元件五厂的谭厂长满脸兴奋：“我这次过来，是和你们订购光刻机的，咱们需要五台光刻机！”

徐教授脸色微微一变。

“老徐，老徐，上次是咱们不对，看上了国外的光刻机，现在，咱们已经认识到了自己的错误，以后，只要咱们国货有对应的产品，咱们一定不会去采购国外的！老徐，你就原谅咱们这一次。”

谭厂长下意识的就以为徐教授是为之前的事情而不悦了。

当初，徐教授亲自跑去魔都元件五厂，给他们推销光刻机，结果，谭厂长等人当时一门心思，就是要买国外的，现在，109厂出了意外，彻底打醒了他们，靠外国人？根本就靠不住！还是得自己人！

魔都元件五厂早就该升级设备了，一直都在等上级批复，毕竟外汇可不是那么容易能到手的。

现在，不用了，完全可以用国内的产品！

徐教授摇头：“不，不，老谭，你们厂有自己的考虑，不用咱们的光刻机，那说明咱们的光刻机还有改进的地方，只是咱们这光刻机，现在还是手工生产的，产量上不去，目前的订单，已经够生产半年的了，你们想要尽快拿到光刻机，那有些难啊！”

“半年？”谭厂长一脸的无奈：“这么久啊，咱们可等不急啊！”

他们已经听说了，国产的龙芯要出来了，等到这种处理器出来，他们魔都元件五厂仿制的英特尔处理器，肯定就会失去市场的啊！

他们得赶紧生产，在龙芯投产之前生产，现在……

“老徐，你们加加班……”

“这不是加班就可以的，别的不说，咱们的光学镜片，那就需要慢慢打磨，这是需要时间的。”

“那就多上人？”

“没那么多空间，也没有那么多人手。”

“咱们魔都有地方，去魔都，你们开个全新的光刻机生产厂啊！”谭厂长说道。

徐教授一愣。

之前一直依托华清大学，现在，如果想要搞光刻机产业，还真需要开个公司啊！

“等明天，我找哈桑殿下商量商量。”

“明天？那就晚了，走，咱们现在就去！”

“老谭，你着什么急！咱们不睡觉，人家哈桑殿下不睡觉了？”徐教授白了谭厂长一眼：“明天，明天再说！”

“好吧。”

第二天，秦富家。

“好啊，咱们的光刻机，的确该产业化生产了！”秦富点头：“我支持成立一个专门生产芯片制造设备的公司！至于在首都还是在魔都，徐教授，你自己选择！”

“哈桑殿下，我认为，在魔都更加合适，那边的电子产业更加发达，有老牌的眼镜厂，而且还是国际化的大都市，更能接触到国际先进理念……”

徐教授是经过一番深思熟虑的。

首都是政治、经济和文化中心，这个称呼说起来好听，实际上沉甸甸的，在这里不管干什么，都会受到很多制约，而魔都，则是国际化的大都市，那边更加开放！

更重要的是，造光刻机，就离不开造镜片，在魔都，有几个老牌的眼镜厂，吴良材眼镜厂，1719年创立，是东方眼镜行业的先去，茂昌眼镜厂，1924年创立，这些老牌的眼镜厂里，都有一群技术精湛的工人！

“好，那就去魔都，就叫做魔都半导体设备有限公司，咱们沙某人会注入足够的资金，你们这些创始人，也会占据一些初始股份，这个公司要不断地研制先进的光刻机，我们的要求不高，必须要做到世界第一！”

徐教授点头：“哈桑殿下，您放心，只要有资金支持，咱们的技术就一定会保持领先！”

秦富向来不重视细节，反正电子产业是交给六哥的，接下来让六哥去协调好了。

等等！

秦富想到了什么：“我们的光刻机，使用什么光源？”

想要超越西方，还得在技术路线上走对了！后世的阿斯麦能够成为光刻机的霸主，而尼康这些大佬陨落，就是因为技术路线错误。

“早期的接触式光刻机用的是436 纳米的g-line和365纳米的 i-line光源，不过进入七十年代之后，准分子激光光源开始出现，咱们的光刻机，用的是248纳米的krf光源，从理论上说，这种光源的光刻机，可以一直用到018微米的工艺水准。咱们在十年内，都不用担心光源问题。”

现在的芯片，还是几微米级别的，八十年代，东方提出的531工程，就是量产5微米，研发3微米，争取上1微米而已。

但是，光刻机这个赛道，也是很卷的，必须得提前研究下一代的光源，否则就会落后。

“哦，那十年后呢？”

“十年后，应该会过渡到arf的技术路线上。”徐教授说道：“咱们华清大学激光所，已经在搞这种全新的光源了，十年内，必然会搞出来。不过……也有一些公司着手更加超前，比如ibm公司，已经在搞x射线的研究了。”

光刻机的技术路线，是在arf光源上遭遇巨大阻力的，这种光源波长193纳米，理论可以刻蚀到55纳米的工艺，但是再向下，就会碰到一座大山。

接下来用什么光源，行业内都是懵逼的，尼康这种老牌厂商，就是错误押宝，开发154纳米的光源，而阿斯麦，用了浸润式光刻机，给镜头加水，改变折射率，直接让光源降低到了134纳米。

浸润式光刻机在多重曝光之后，最低可以做到10纳米，再向下，就是极紫外的euv光刻机了。

所以，只要arf这个赛道不出错，以后咱们迅速过渡到浸入式光刻机，那就能用到新千年之后了！

“嗯，咱们坚定地走自己的技术路线就行！”秦富点头。